| 柔性衬底ITO薄膜的制备及其光电性能研究 |
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| 引用本文： | 郝雷,刁训刚,胡小草,张鲁豫,郝维昌,王天民.柔性衬底ITO薄膜的制备及其光电性能研究[J].真空科学与技术学报,2008,28(3):256-260. |
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| 作者姓名： | 郝雷 刁训刚 胡小草 张鲁豫 郝维昌 王天民 |
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| 作者单位： | 北京航空航天大学,理学院,北京,100083 |
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| 摘 要： | 在室温下，采用直流反应磁控溅射法，在聚酯薄膜（PEP）衬底上镀制了高性能的ITO薄膜。为了提高薄膜与基底的结合力，溅射前采用多弧离子源对PEP表面进行了等离子体清洗。研究了溅射工艺参数对ITO薄膜的光电性能和红外发射率的影响规律，探讨了ITO膜的透光和导电机理，并分析了方块电阻与红外发射率的相互关系。实验结果表明，通过等离子体清洗，ITO薄膜的结合力和光电性能都得到了改善。ITO薄膜的红外发射率和方块电阻受制备条件的影响规律具有相似之处，红外发射率随薄膜方块电阻的增大而呈增加的趋势。
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| 关 键 词： | ITO膜 直流磁控溅射 光电性能 红外发射率 柔性衬底 膜的制备 电性能研究 Substrates Flexible Oxide Films Indium Properties 趋势 相似 制备条件 改善 结果 实验 相互关系 方块电阻 分析 导电机理 透光 规律 |
| 文章编号： | 1672-7126(2008)03-256-05 |
| 修稿时间： | 2007年9月11日 |
Growth and Photoelectrical Properties of Indium Tin Oxide Films on Flexible Substrates |
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| Hao Lei,Diao Xungang,Hu Xiaocao,Zhang Luyu,Hao Weichang,Wang Tianmin.Growth and Photoelectrical Properties of Indium Tin Oxide Films on Flexible Substrates[J].JOurnal of Vacuum Science and Technology,2008,28(3):256-260. |
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| Authors: | Hao Lei Diao Xungang Hu Xiaocao Zhang Luyu Hao Weichang Wang Tianmin |
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