| 磁控溅射WO3薄膜特性研究 |
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| 引用本文： | 林伟,黄世震,陈伟,颜志波,耿涛. 磁控溅射WO3薄膜特性研究[J]. 郑州轻工业学院学报(自然科学版), 2002, 17(4): 7-10 |
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| 作者姓名： | 林伟 黄世震 陈伟 颜志波 耿涛 |
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| 作者单位： | 福州大学,气敏传感器研究所,福建,福州,350002 |
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| 基金项目： | 福建省科技三项费用项目(K2001015) |
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| 摘 要： | 用磁控溅射法制成WO3薄膜,通过改变成膜的溅射参数来改变WO3薄膜的性能.利用XRD分析了样品的粒径大小,研究了成膜工艺参数对气敏元件性能的影响.结果表明,薄膜中WO3晶粒的平均尺寸为17 nm,该传感器对NOx气体有非常好的灵敏度和选择性,对体积分数为1×10-5的NOx气体灵敏度高于50倍,而对其他干扰气体的灵敏度小于2倍.
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| 关 键 词： | 磁控溅射法 氧化钨 氧化氮 薄膜 气敏元件 气敏材料 |
| 文章编号： | 1004-1478(2002)04-0007-04 |
Study on the character of WO3 thin film prepared by magnetron sputtering |
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| LIN Wei,HUANG Shi-zhen,CHEN Wei,YAN Zhi-bo,GENG Tao. Study on the character of WO3 thin film prepared by magnetron sputtering[J]. Journal of Zhengzhou Institute of Light Industry(Natural Science), 2002, 17(4): 7-10 |
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| Authors: | LIN Wei HUANG Shi-zhen CHEN Wei YAN Zhi-bo GENG Tao |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | magnetron sputtering WO 3 nitrogen oxide thin film |
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