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| 高粘接性的透明导电膜 | |
| 引用本文： | 王嘉祯.高粘接性的透明导电膜[J].化工新型材料,1985(10). |
| 作者姓名： | 王嘉祯 |
| 摘 要： | 日东电气工业公司用聚酯膜作基材在其表面上复合了一层铟钖氧化物的薄膜,使之形成透明的导电膜。这是采用该公司独特的溅蚀技术进行表面处理而成的,其特点是基材与导电层的粘合性优良。该透明导电膜的表面电阻可分为100Ω至500Ω的电极级和1000Ω的静电级两类。可见光透过率高达80～88％。通过溅蚀处理,在基材薄膜表面形成许多直径为0.5μm长数μm的凸起球体,使粘接性得以提高。该透明导电膜在苛性钠液体中浸渍50分钟,仍能保持其初期的粘合性。日东电气公司计划生产宽2.5m、厚100μm、电阻为100Ω和 |
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