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| CPM法薄膜成膜技术 | |
| 引用本文： | 张一鸣,柳卿.CPM法薄膜成膜技术[J].真空电子技术,1990(4):48-52. |
| 作者姓名： | 张一鸣 柳卿 |
| 摘 要： | 本文特别介绍了各种成膜法中的等离子体CVD技术以及最近研制成功的通过外加磁场来控制等离子体的CPM(Controlled Plasma Magnetron)技术。该技术具有性能优异及可连续性制备薄膜的特点。本文仅以非晶硅(a-Si)薄膜成膜为重点,介绍了CPM技术的梗概及其优点。 |
| 关 键 词： | 薄膜 成膜技术 CPM法 CVD技术 |
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