引进硅片处理设备的故障自检系统

在大规模集成电路生产设备中,硅片处理系统包括涂胶/烘干、显影/烘干和擦片/烘干三种主要设备,是光刻工艺中除光刻机而外的关键设备。光刻胶涂层的好坏及光刻后的显影效束、擦洗的干净程度,直接影响集成电路的集成度和成品率。根据光刻工艺的特点,需进行多次掩膜版曝光,显影、清洗等循环过程,如果在此过程中,设备发生故障,特别是在接近最后一道光刻流程时发生故障,使作好管芯的硅片报废,将给生产厂带来巨大的经济损失。因此,对硅片处理设备的可靠性、故障的自动检测、排除、连锁、报警等方面的要求很高。