| DMSO中脉冲电沉积Y-Ni合金膜 |
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| 引用本文： | 刘冠昆,王小晗,何山. DMSO中脉冲电沉积Y-Ni合金膜[J]. 材料保护, 2001, 34(2): 19-20 |
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| 作者姓名： | 刘冠昆 王小晗 何山 |
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| 作者单位： | 1. 中山大学化学与化学工程学院
2. 中国电子产品可靠性与环境试验研究所 |
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| 基金项目： | 广东省自然科学基金资助项目! (96 0 0 0 2 ) |
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| 摘 要： | 采用脉冲电沉积技术，在室温下的含YCl3和NiCl2的二甲基亚砜（DMSO）溶液中，沉积出含稀土元素Y的Y－Ni合金薄膜。研究了影响镀层性能的工艺参数，包括脉冲频率、占空比、电流效率及Y在镀层中的含量与电流密度的关系，用X射线分析仪确定镀层的物相组成，用扫描电镜及能谱仪分析了合金镀层的组成及形态。发现，随着电流密度增大，合金镀层中的稀土Y含量增高。Y-Ni合金薄膜具有非晶态结构，具有良好的耐蚀性和一定的抗氧化性。
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| 关 键 词： | 二甲基亚砜 脉冲电沉积 Y－Ni合金膜 非水体系 工艺 合金镀层 钇镍合金 |
| 文章编号： | 1001-1560(2001)02-0019- 02 |
Pulse Electrodeposition of Y-Ni Alloy Film |
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| LIU Guan-kun. Pulse Electrodeposition of Y-Ni Alloy Film[J]. Journal of Materials Protection, 2001, 34(2): 19-20 |
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| Authors: | LIU Guan-kun |
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| Abstract: | Cailiao baohu 2001, 34(2), 19∽ 20(Ch). The pulse electrodeposition of Y-Ni alloy functional film in YCl3-NiCl2-DMSO solution at room temperature was studied. It showed that the various grey rare earth alloy films with metallic lustre could be prepared by pulse plating in DMSO solution at 5～ 15 mA/cm2 current density. |
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