| 低压沉积温度对MoSi2涂层微观结构与性能影响 |
| |
| 引用本文： | 吴 恒,李贺军,王永杰,付前刚,何子博,魏建锋.低压沉积温度对MoSi2涂层微观结构与性能影响[J].无机材料学报,2009,24(2):392-396. |
| |
| 作者姓名： | 吴 恒 李贺军 王永杰 付前刚 何子博 魏建锋 |
| |
| 作者单位： | 西北工业大学炭/炭复合材料工程技术研究中心，西安710072 |
| |
| 摘 要： | 以SiCl4和H2为原料，采用低压化学气相沉积（LPCVD）渗硅法在Mo基体表面原位反应制备了MoSi2涂层，研究了沉积温度对MoSi2涂层微观形貌、物相组成、沉积速率、涂层的硬度、涂层与基体结合强度的影响. 研究结果表明：在1100~1200℃下制备的涂层结构致密，由单一MoSi2组成，沉积速率、涂层的硬度以及与基体的结合强度均表现为増加的趋势；当沉积温度高于1200℃，涂层出现开裂现象，由游离Si和MoSi2两相组成，涂层沉积速率、硬度和结合强度均出现下降的趋势. 1100℃以下沉积的主要控制步骤为Si与Mo反应，而1100℃以上Si在涂层中的扩散对沉积过程起控制作用.
|
| 关 键 词： | LPCVD MoSi2涂层 微观结构 性能 沉积温度 |
| 收稿时间： | 2008-7-4 |
| 修稿时间： | 2008-9-23 |
Effect of Deposition Temperature on Microstructures and Properties of MoSi2 Coatings Prepared by Low Pressure Chemical Vapor Deposition |
| |
| WU Heng,LI He-Jun,WANG Yong-Jie,FU Qian-Gang,HE Zi-Bo,WEI Jian-Feng.Effect of Deposition Temperature on Microstructures and Properties of MoSi2 Coatings Prepared by Low Pressure Chemical Vapor Deposition[J].Journal of Inorganic Materials,2009,24(2):392-396. |
| |
| Authors: | WU Heng LI He-Jun WANG Yong-Jie FU Qian-Gang HE Zi-Bo WEI Jian-Feng |
| |
| Abstract: | |
| |
| Keywords: | LPCVD MoSi2 coatings microstructures properties deposition temperature |
|
| 点击此处可从《无机材料学报》浏览原始摘要信息 |
|
点击此处可从《无机材料学报》下载全文 |
