| 氧化钨薄膜电致变色机理的探讨 |
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| 引用本文： | 李竹影 宋玉苏 罗珊. 氧化钨薄膜电致变色机理的探讨[J]. 海军工程学院学报, 2006, 18(6): 36-39,44 |
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| 作者姓名： | 李竹影 宋玉苏 罗珊 |
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| 作者单位： | [1]海军工程大学理学院,湖北武汉430033 [2]解放军通信指挥学院,湖北武汉430010 |
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| 基金项目： | 海军工程大学科学研究基金资助项目（HGDJJ2003006） |
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| 摘 要： | 研究磁控溅射生成的氧化钨薄膜处于电解液系列中的循环伏安特性，充电电流厦光学特性．采用配体场理论来解释氧化钨薄膜在电场作用下，锂离子注入引起薄膜变色的现象，认为注入的锂离子破坏了薄膜界面层内氧化钨分子的八面体结构的对称性，在内部静电场和外部电场的共同作用下，鸽离子d轨道的五重简并能级分裂。从而使得薄膜对可见光产生d-d吸收，导致氧化钨薄膜变色．
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| 关 键 词： | 电致变色 WO3薄膜 机理 |
| 文章编号： | 1009-3486（2006）06-0036-04 |
| 收稿时间： | 2006-05-11 |
| 修稿时间： | 2006-06-10 |
Survey of electrochromic mechanism of tungsten oxide thin films |
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| LI Zhu-ying, SONG Yu-su, LUO Shan. Survey of electrochromic mechanism of tungsten oxide thin films[J]. , 2006, 18(6): 36-39,44 |
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| Authors: | LI Zhu-ying SONG Yu-su LUO Shan |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | eleetroehromism WO3 thin film mechanism |
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