| 电弧离子镀制备TiAlN膜工艺研究 |
| |
| 引用本文： | 吕树国,李玉海,张罡,姚俊,毕鉴智,金光.电弧离子镀制备TiAlN膜工艺研究[J].沈阳理工大学学报,2006,25(1):78-82. |
| |
| 作者姓名： | 吕树国 李玉海 张罡 姚俊 毕鉴智 金光 |
| |
| 作者单位： | 沈阳理工大学,中俄联合高能束流实验室,辽宁,沈阳,110168 |
| |
| 摘 要： | 采用阴极电弧离子镀技术在1Cr18Ni9Ti不锈钢基材上制备TiAlN膜层,镀膜装置为俄罗斯科学院UVN 0.5D2I电弧离子镀膜机,该设备由一个大功率的气体离子源和两个金属蒸发源组成.气体离子源具有气体离子轰击和辅助沉积的特点.研究了电弧电流、负偏压和气体离子源功率等工艺参数对膜层的影响规律.实验结果表明:气体离子源具有明显的细化金属颗粒的作用.提出了制备TiAlN膜层的最佳工艺,得到了厚度为5 ～10μm、相结构为Ti0.5Al0.5N、显微硬度为1200HV0.01的TiAlN膜层.
|
| 关 键 词： | 电弧离子镀 TiAlN膜层 偏压 抗氧化性 气体离子源 |
| 文章编号： | 1003-1251(2006)01-0078-05 |
| 修稿时间： | 2005年2月28日 |
Research of TiAlN Coating Depostied by Arc ion Plating |
| |
| LV Shu-guo,LI Yu-hai,ZHAN Gang.Research of TiAlN Coating Depostied by Arc ion Plating[J].Transactions of Shenyang Ligong University,2006,25(1):78-82. |
| |
| Authors: | LV Shu-guo LI Yu-hai ZHAN Gang |
| |
| Abstract: | |
| |
| Keywords: | arc ion plating TiAiN coating bias voltage oxidation resistance gas ion source |
| 本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录！ |
|
