| 调制光热法低温接触界面层热阻研究 |
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| 引用本文： | 石零,王惠龄,赵琰. 调制光热法低温接触界面层热阻研究[J]. 低温工程, 2006, 0(2): 7-9,14 |
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| 作者姓名： | 石零 王惠龄 赵琰 |
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| 作者单位： | 华中科技大学制冷与低温工程研究所,武汉,430074;江汉大学化学与环境工程学院,武汉,430056;华中科技大学制冷与低温工程研究所,武汉,430074 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金，高等学校博士学科点专项科研项目 |
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| 摘 要： | 选择航天器和低温工程中常用金属材料铜、不锈钢,用激光光热法原理,研究低温接触界面层热阻.实验得到了铜在常温下的调制频率与相位差间的实验数据,通过对实验数据的线性拟合得到了铜的热扩散系数,以及铜-不锈钢在300K和20 K低温下的接触界面层热阻.实验表明调制光热法能够测量具有微结构特征的接触界面层热阻,且具有非接触测量的特点.
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| 关 键 词： | 界面层热阻 光热测量 热传递 低温 |
| 文章编号： | 1000-6516（2006）02-0007-03 |
| 收稿时间： | 2006-01-06 |
| 修稿时间： | 2006-01-062006-03-22 |
Study of thermal contact resistance by modulation photothermal method |
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| Shi Ling,Wang Huiling,Zhao Yan. Study of thermal contact resistance by modulation photothermal method[J]. Cryogenics, 2006, 0(2): 7-9,14 |
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| Authors: | Shi Ling Wang Huiling Zhao Yan |
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| Abstract: | The thermal contact resistance between copper and stainless steel was investigated at 300 K and 20 K using the photothermal method. The experimental data of copper was obtained about the phase lag dependence of modulation frequency at normal temperature, and the thermal diffusivity of copper was acquired by using the linear fit. The experiment results show that the interface layer thermal contact resistance can be measured by using photothemal technique and this method demonstrated some merits of non-contact measurement and short time consuming. |
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| Keywords: | interface layer thermal resistance photothermal measurement heat transfer cryogenic |
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