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材料制备工艺
摘 要:
9915150应用于 EEPROM 的超薄 SiO_2 TDDB 特性的研究[刊]/薛刚//微电子学.—1999,29(3).—187~189,199(A)MM-HEMT 材料的分子束外延生长研究(见9915085)ZnO 薄膜的 MBE 制备与结构分析(见9914896)P-Si(111)上溅射生长 ZnO 薄膜的结构特性(见9914892)
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