| GexC1—x薄膜在红外增透保护模系设计和制备中的应用 |
| |
| 引用本文： | 宋建全 刘正常. GexC1—x薄膜在红外增透保护模系设计和制备中的应用[J]. 红外与毫米波学报, 2000, 19(4): 266-268 |
| |
| 作者姓名： | 宋建全 刘正常 |
| |
| 作者单位： | 西北工业大学材料科学与工程学院,陕西,西安,710072 |
| |
| 基金项目： | 航空基金，93G53120， |
| |
| 摘 要： | 用磁控反应溅射（ＲＳ）法制备出ＧｅｘＣ１－ｘ薄膜，它的折射率可在１．６～４．０之间变化，设计出没厚度的ＧｅｘＣ１－ｘ均匀增透膜 非均匀增透膜系，并在ＺｎＳ基片上制备出ＧｅｘＣ１－ｘ均匀增膜系，设计结果表明，均匀膜系实现某－波段范围内增透，非均匀膜系能实现宽波段增透；当厚度增加时，均匀增透膜系的透过率曲线变得急剧振荡，非均匀膜系的透过率曲线变得更为平滑，且向长波段扩展，实现结果表明，在８～１１．５μ
|
| 关 键 词： | 薄膜 射频磁控反溅射 红外增透保护膜系 |
APPLICATION OF GexC1-xFILMS TO DESIGN AND DEPOSITION OF INFRARED ANTIREFLECTION AND PROTECTION FILMS |
| |
| SONG Jian-Quan,LIU Zheng-Tang,YU Zhong-Qi,GENG Dong-Sheng,ZHENG Xiu-Lin. APPLICATION OF GexC1-xFILMS TO DESIGN AND DEPOSITION OF INFRARED ANTIREFLECTION AND PROTECTION FILMS[J]. Journal of Infrared and Millimeter Waves, 2000, 19(4): 266-268 |
| |
| Authors: | SONG Jian-Quan LIU Zheng-Tang YU Zhong-Qi GENG Dong-Sheng ZHENG Xiu-Lin |
| |
| Abstract: | |
| |
| Keywords: | Ge_xC_(1-x)films RF magnetron reactive sputtering films design infrared antireflective and protective films. |
| 本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录！ |
| 点击此处可从《红外与毫米波学报》浏览原始摘要信息 |
|
点击此处可从《红外与毫米波学报》下载全文 |
