我国第一台多用磁控溅射离子镀膜机研制成功

我国第一台多用可代替电镀的 CLD-850A 型多用磁控溅射离子镀膜机在大连工学院研翻成功,六月十四日正式通过鉴定。该机是本院自1979年开始研究离子镀代电镀技术,通过三次技术鉴定会的基础上研制成功的.该机具有设备结构简单、工艺稳定、操作方便等优点,更重要的没有公害,不需治理三废投资。镀膜质量高,与基体有较宽过渡层、附着性好;打碎柱状晶,组织微密,耐蚀性好。与电镀相比可节电38%、节95%水。