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衍射光学元件表面形貌测量方法研究
引用本文:周明宝,林大键,白临波.衍射光学元件表面形貌测量方法研究[J].光电工程,1998(Z1).
作者姓名:周明宝  林大键  白临波
作者单位:中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室!成都,610209,中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室!成都,610209,中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室!成都,610209
摘    要:提出了一种基于双光路双波长相移干涉显微原理的新型 DOE三维表面形貌测量方法 ,并建立了相应的测量系统。理论分析和测量结果表明 ,测量系统纵向分辨率为 0 .5 nm,横向分辨率约为 0 .5 μm(NA=0 .4) ,在整个纵向测量范围内重复测量精度优于 1 .3nm,满足了 DOE表面形貌测量的需要。

关 键 词:衍射光学元件  面形测量  三维测量  相移干涉术

Investigation on Measuring Method for3-D Surface Topography of Diffractive Optical Elements
Zhou Mingbao,Lin Dajian,Bai Linbo.Investigation on Measuring Method for3-D Surface Topography of Diffractive Optical Elements[J].Opto-Electronic Engineering,1998(Z1).
Authors:Zhou Mingbao  Lin Dajian  Bai Linbo
Abstract:
Keywords:Diffractive optical elements  Surface shape measurement  Three-  dimensional measurement  Phase- shifting interferometry
本文献已被 CNKI 等数据库收录!
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