| W/SiC纳米多层膜的制备及表征 |
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| 引用本文： | 李戈扬,张流强,辛挺辉.W/SiC纳米多层膜的制备及表征[J].真空科学与技术学报,1999,19(4). |
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| 作者姓名： | 李戈扬 张流强 辛挺辉 |
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| 作者单位： | 上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室!上海200030，中国科学院上海冶金研究所上海200050，上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室!上海200030，中国科学院上海冶金研究所上海200050，上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室!上海200030，中国科学院上海冶金研究所上海2 |
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| 摘 要： | 采用多靶磁控溅射制备了 Ｗ／ＳｉＣ纳米多层膜。并用 ＸＲＤ和 ＴＥＭ研究了 Ｗ／ＳｉＣ纳米多层膜的微结构。研究表明，Ｗ／ＳｉＣ纳米多层膜的调制结构界面平直、清晰、周期性好；ＳｉＣ调制层为非晶态，Ｗ调制层在大调制周期为纳米晶，并随调制周期减小逐渐转变为非晶态。
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| 关 键 词： | W/SiC纳米多层膜 多靶溅射 调制结构 |
Growth and Characterization of W/SiC Nanometer Multilayers |
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| Li Geyang,Zhang Liuqiang,Xin Tinghui,Wu Liang,Li Pengxins.Growth and Characterization of W/SiC Nanometer Multilayers[J].JOurnal of Vacuum Science and Technology,1999,19(4). |
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| Authors: | Li Geyang Zhang Liuqiang Xin Tinghui Wu Liang Li Pengxins |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | W/SiC nanomenter multilayers Multi-target sputtering Modulation structure |
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