电弧离子镀工艺参数对Cr涂层沉积及性能的影响 |
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作者姓名: | 杨红艳 韦天国 张瑞谦 王昱 陈寰 |
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作者单位: | 中国核动力研究设计院反应堆燃料及材料重点实验室,四川成都610213 |
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摘 要: | 为研究工艺参数对Cr涂层沉积及性能的影响,采用多孤离子镀技术在Zr-4合金表面制备Cr涂层,利用正交试验设计合理的孤电流、偏压、气压试验条件表,重点分析了工艺参数对Cr涂层质量、沉积速率及性能的影响.利用室温拉伸试验测试涂层的膜基协同变形能力,利用1000℃、60 min空气中氧化试验测试Cr涂层的耐高温氧化性能.结果...
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关 键 词: | 多弧离子镀 Cr涂层 工艺参数 沉积速率 协同变形 高温氧化 |
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