| ICP-AES法测定工业硅中10种杂质元素 |
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| 引用本文： | 杨万彪,傅明,陈新焕,胡宇东,袁智能.ICP-AES法测定工业硅中10种杂质元素[J].冶金分析,2003,23(1):1-1. |
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| 作者姓名： | 杨万彪 傅明 陈新焕 胡宇东 袁智能 |
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| 作者单位： | 湖南出入境检验检疫局,湖南出入境检验检疫局,湖南出入境检验检疫局,湖南出入境检验检疫局,湖南出入境检验检疫局 湖南长沙410007,湖南长沙410007,湖南长沙410007,湖南长沙410007,湖南长沙410007 |
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| 摘 要： | 研究了利用ICP发射光谱仪测定工业硅中Fe ,Al,Ca ,P ,Ti,Cu ,Zn ,Mg ,Mn ,Ni等 10种元素的方法 ,确定了各元素的检出限 ,回收率在 94%～ 10 5 %之间 ,RSD小于 3.5 % ,该方法用于样品测定 ,结果满意。
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| 关 键 词： | ICP-AES 工业硅 杂质元素测定 |
| 文章编号： | 1000-7571(2003)01-0009-03 |
Determination of 10 impurity elements in industrial silicon by ICP-AES |
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| YANG Wan-biao,FU Ming,CHEN Xin-huan,HU Yu-dong,YUAN Zhi-neng.Determination of 10 impurity elements in industrial silicon by ICP-AES[J].Metallurgical Analysis,2003,23(1):1-1. |
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| Authors: | YANG Wan-biao FU Ming CHEN Xin-huan HU Yu-dong YUAN Zhi-neng |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | ICP-AES industrial silicon determination of impurity elements |
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