| 波导材料二氧化硅厚膜的快速生长 |
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| 引用本文： | 吴远大,邢华,张乐天,李爱武,郑伟,刘国范,张玉书. 波导材料二氧化硅厚膜的快速生长[J]. 高技术通讯, 2002, 12(1): 43-46 |
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| 作者姓名： | 吴远大 邢华 张乐天 李爱武 郑伟 刘国范 张玉书 |
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| 作者单位： | 吉林大学电子系光电子国家重点实验室,长春,130023 |
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| 基金项目： | 国家 973(G2 0 0 0 36 6 0 2 )资助项目 |
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| 摘 要： | 采用火焰水解法（FHD）在Si片（ф4.5cm）上快速淀积疏松多孔的SiO2厚膜材料，淀积速率达8цm/min。然后将该材料分别在真空/空气气氛中高温致密化处理，获得了各种形态的二氧化硅厚膜。其中包括平整度好、光滑透明的玻璃态SiO2厚膜，该膜厚度达到40цm以上，完全适合制作平面光波导器件。最后，利用XRD、SEM、光学显微镜等仪器对SiO2膜的表面和膜厚进行了测试分析，并讨论了影响致密化SiO2厚膜结构的各种因素。
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| 关 键 词： | 波导材料 二氧化硅厚膜 火焰水解法 致密化 FHD 玻璃态SiO2 薄膜生长 |
The Deposition of Silica Wave-guide Material |
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| Wu Yuanda,Xin Hua,Zhang Letian,Li Aiwu,Zheng Wei,Liu Guofan,Zhang Yushu. The Deposition of Silica Wave-guide Material[J]. High Technology Letters, 2002, 12(1): 43-46 |
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| Authors: | Wu Yuanda Xin Hua Zhang Letian Li Aiwu Zheng Wei Liu Guofan Zhang Yushu |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | Flame hydrolysis deposition (FHD) Silica glass |
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