| 甘氨酸体系三价铬电沉积工艺研究 |
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| 引用本文： | 雷华山,何湘柱,舒绪刚,谢绍俊,黄林源.甘氨酸体系三价铬电沉积工艺研究[J].表面技术,2009,38(1):57-60. |
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| 作者姓名： | 雷华山 何湘柱 舒绪刚 谢绍俊 黄林源 |
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| 作者单位： | 广东工业大学轻化工学院,广东,广州,510006;广东工业大学轻化工学院,广东,广州,510006;广东工业大学轻化工学院,广东,广州,510006;广东工业大学轻化工学院,广东,广州,510006;广东工业大学轻化工学院,广东,广州,510006 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金，湖南省自然科学基金，湖南省教委高校科研项目 |
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| 摘 要： | 为了研究1种以甘氨酸为络合剂的三价铬镀铬工艺,采用正交试验法确定三价铬电沉积的最佳工艺,即0.6mol/L CrCl3*6H2O,0.6mol/L Gly,50g/L NH4Cl,0.6mol/L AlCl3·H2O,0.5mol/L NaCl,60g/L H3BO3,20g/L NaF,0.1mol/L KBr,适量的润湿剂和去极化剂,pH=1.8,Jk=15A/dm2,θ=20℃,时间15min.并具体讨论了络合比、阴极电流密度、时间、温度等因素对镀层厚度和外观的影响;试验结果证明:在该种工艺下可获得光亮、呈准镜面外观、厚度达8μm 左右的铬镀层;且经镀层性能检测表明:该镀层表面光亮、平整,与基体材料结合良好,具有一定的耐腐蚀性能.
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| 关 键 词： | 三价铬镀铬 沉积厚度 外观 正交试验 甘氨酸 络合剂 |
Electrodeposition Craft Research of Glycine System Trivalent Chromium |
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| LEI Hua-shan,HE Xiang-zhu,SHU Xu-gang,XIE Shao-jun,HUANG Lin-yuan.Electrodeposition Craft Research of Glycine System Trivalent Chromium[J].Surface Technology,2009,38(1):57-60. |
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| Authors: | LEI Hua-shan HE Xiang-zhu SHU Xu-gang XIE Shao-jun HUANG Lin-yuan |
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| Affiliation: | LEI Hua-shan,HE Xiang-zhu,SHU Xu-gang,XIE Shao-jun,HUANG Lin-yuan(Faculty of Light , Chemical Engineering,Guangdong University of Technology,Guangzhou 510006,China) |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | Trivalent chromium Deposition thickness Appearance Orthogonal test Glycine Complex agent |
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