| 基于磁控溅射技术的ZAO透明导电薄膜及靶材的研究 |
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| 引用本文： | 肖华,王华,任鸣放.基于磁控溅射技术的ZAO透明导电薄膜及靶材的研究[J].液晶与显示,2006,21(2):158-164. |
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| 作者姓名： | 肖华 王华 任鸣放 |
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| 作者单位： | 1. 桂林电子工业学院,通信与信息工程系,广西,桂林,541004
2. 桂林电子工业学院,信息材料科学与工程系,广西,桂林,541004 |
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| 摘 要： | 阐述用磁控溅射技术制备综合性能优良的ZAO透明导电薄膜及其靶材的发展现状和趋势。介绍了透明导电薄膜的基本性能及其存在的问题,进而重点阐述了ZAO薄膜的组织结构、导电机制和透光特性。由于其优良的光电特性(用掺杂Al2O3质量分数达3%的溅射靶材可制备电阻率达4.7×10-4Ω·cm、透射率超过90%的ZAO薄膜)而具有广泛的应用前景。并针对靶材的制备和利用磁控溅射技术制备ZAO透明导电薄膜过程中存在的问题及发展方向进行了分析讨论。
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| 关 键 词： | 磁控溅射 ZAO透明导电薄膜 溅射靶材 光电特性 |
| 文章编号： | 1007-2780(2006)02-0158-07 |
| 修稿时间： | 2005年6月17日 |
Aluminum Doped ZnO Transparent Conductive Oxide Films and Target by Magnetron-Sputtering |
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| XIAO Hua,WANG Hua,REN Ming-fang.Aluminum Doped ZnO Transparent Conductive Oxide Films and Target by Magnetron-Sputtering[J].Chinese Journal of Liquid Crystals and Displays,2006,21(2):158-164. |
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| Authors: | XIAO Hua WANG Hua REN Ming-fang |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | magnetron-sputtering ZAO thin films sputtering target optical and electrical characte- ristics |
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