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GaN/SiC异质结正向恢复行为的数值模拟
引用本文:赵少云,韦文生. GaN/SiC异质结正向恢复行为的数值模拟[J]. 材料导报, 2016, 30(8): 143-148, 157. DOI: 10.11896/j.issn.1005-023X.2016.08.032
作者姓名:赵少云  韦文生
作者单位:温州大学物理与电子信息工程学院,温州,325035
基金项目:国家自然科学基金(62174006)
摘    要:利用Matlab编程模拟仿真了GaN/SiC异质结的正向恢复过程。讨论了GaN/SiC异质结的模型,分析了异质结的外因(外加电流变化率、温度等)及内因(N区掺杂浓度、电子迁移率等)对异质结正向峰值电压和正向恢复时间的影响,对比了GaN/6H-SiC、GaN/4H-SiC、GaN/3C-SiC三种异质结的正向恢复过程。结果表明,前述内、外因素对GaN/SiC异质结的正向恢复有明显影响,可通过调节各参数以优化GaN/SiC异质结的正向恢复过程。

关 键 词:GaN/SiC异质结  正向恢复  峰值电压  正向恢复时间  数值模拟

Numerical Simulation on Forward Recovery Behavior of GaN/SiC Heterojunction
ZHAO Shaoyun,WEI Wensheng. Numerical Simulation on Forward Recovery Behavior of GaN/SiC Heterojunction[J]. Materials Review, 2016, 30(8): 143-148, 157. DOI: 10.11896/j.issn.1005-023X.2016.08.032
Authors:ZHAO Shaoyun  WEI Wensheng
Abstract:
Keywords:GaN/SiC heterojunction   forward recovery   peak voltage   forward recovery time   numerical simulation
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