NiTi合金电解抛光机理研究 |
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引用本文: | 缪卫东,米绪军,朱明,高兆祖. NiTi合金电解抛光机理研究[J]. 金属学报, 2002, 38(Z1): 630-632 |
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作者姓名: | 缪卫东 米绪军 朱明 高兆祖 |
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作者单位: | 有研亿金新材料股份有限公司,北京,100088 |
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摘 要: | 本文对NiTi合金的电解抛光机理进行了初步的探索.研究表明NiTi合金的电解抛光特性曲线与典型的电解抛光特性曲线有显著不同,不存在稳定的电流平台区.当试样在低电位区抛光时,抛光速度为反应产物通过粘滞层的扩散速度所控制;而当试样在高电位区抛光时,则以点蚀机制为主.
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关 键 词: | NiTi 合金 电解抛光 机理 |
文章编号: | 0412-1961(2002)S-S630-03 |
修稿时间: | 2002-03-25 |
ELECTROPOLISHING MECHANISM OF NiTi ALLOY |
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Abstract: | |
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