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| 高性能低烧MLC三层镀工艺研究（一）静态电镀 | |
| 引用本文： | 曾智强,李龙土.高性能低烧MLC三层镀工艺研究（一）静态电镀[J].功能材料,1997,28(2):143-145. |
| 作者姓名： | 曾智强 李龙土 |
| 作者单位： | 清华大学材料科学与工程系 |
| 摘 要： | 本文探讨了ＰＭＮ系多层陶瓷电容器的静态三层镀工艺。分析了工艺参数驿ＭＬＣ电性能的影响，表明静态电镀对ＭＬＣ的电容量，经缘电阻影响不明显，而介质损耗变化剧烈；和镀Ｚ／Ｓｎ相比，镀Ｎｉ过程对ＭＬＣ的性能影响较大。 |
| 关 键 词： | 三层镀 静态电镀 陶瓷电容器 |
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