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| Ti－N隔层厚度对Fe－N／Ti－N纳米多层膜磁性的影响 | |
| 作者姓名： | 王振军 顾有松 常香荣 田中卓 肖纪美 闻立时 |
| 作者单位： | 北京科技大学材料物理系，中国科学院金属研究所 |
| 摘 要： | 用磁控溅射技术成功的制备了Ｆｅ－Ｎ／Ｔｉ－Ｎ纳米多层膜．Ｆｅ－Ｎ层厚度固定为２．２ｎｍ，Ｔｉ－Ｎ层厚度在０．５ｎｍ和４．６ｎｍ之间依次变化．由Ｘ射线衍射结果发现样品中有Ｆｅ１６Ｎ２相存在，发现Ｔｉ－Ｎ层厚度的变化，对剩磁比、饱和外场、矫顽力、饱和磁化强度（ＭＳ）有很大影响，Ｆｅ－Ｎ层之间有铁磁耦合和反铁磁耦合变化． |
| 关 键 词： | Fe－N／Ti－N多层膜，层间耦合，Fe＿（16）N＿2 |
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