离子注入对聚对苯乙炔衍生物三阶非线性光学极化率的影响 |
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引用本文: | 吕海霞,李宝铭.离子注入对聚对苯乙炔衍生物三阶非线性光学极化率的影响[J].功能材料,2007,38(A01):337-339. |
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作者姓名: | 吕海霞 李宝铭 |
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作者单位: | 福州大学材料科学与工程学院,福建福州350002 |
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摘 要: | 利用能量为25keV,剂量为3.8×10^15-9.6×10^16ions/cm^2的氮正离子(N^+)对聚(2,5-二己氧基)对苯乙炔(PDHOPV)薄膜进行注入改性研究。紫外-可见吸收光谱显示,注入离子在PDHOPV薄膜内部引入杂质能级,破坏分子的共轭结构,随着注入剂量增加,吸收边逐渐向长波方向移动,且分子激发态和基态间的光学禁带宽度由2.07eV减小至1.65eV。采用简并四波混频(DFWM)技术研究了离子注入对PDHOPV薄膜三阶非线性光学极化率的性能。结果表明,未注入薄膜的三阶非线性光学极化率(X^(3))为9.61×10^-10esu,随着注入剂量增加,X^(3)逐渐增大,当注入剂量达到3.8×10^16ions/cm^2。时,X^(3)值增加到最大值为8.44×10^-9esu。
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关 键 词: | 三阶非线性光学极化率 聚(2 5-二己氧基)对苯乙炔 简并四波混频 |
文章编号: | 1001-9731(2007)增刊-0337-03 |
修稿时间: | 2007-07-09 |
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