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| 溅射气压对FeCoSiB非晶薄膜表面形貌及磁特性的影响 | |
| 作者姓名： | 汤如俊 谢巧英 彭斌 张万里 张文旭 蒋洪川 |
| 作者单位： | 电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室,四川成都610054 |
| 基金项目： | 国家自然科学基金资助项目（50501004）. |
| 摘 要： | 利用磁控溅射的方法，在玻璃基片上制备了FeCoSiB非晶薄膜，研究了溅射心气压强对薄膜表面形貌及磁特性的影响。结果表明，薄膜的表面形貌显著依赖于心气压强，随着山Ar压强的增加，薄膜表面颗粒增大，粗糙度增加并形成柱状微结构。心气压强对薄膜磁特性有显著的影响，随血压强增加，薄膜的矫顽力增加，而剩磁则呈下降趋势。从薄膜的磁滞回线、矫顽力以及剩磁随溅射气压的变化规律可知，溅射气压较小时制备的薄膜软磁性能较好． |
| 关 键 词： | FeCoSiB 非晶薄膜 溅射气压 表面形貌 矫顽力 剩磁 |
| 文章编号： | 1001-9731（2007）增刊-1114-03 |
| 修稿时间： | 2007-05-05 |
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