| TbFe磁性薄膜的磁力显微镜成像研究 |
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| 引用本文： | 王志红,周宇,沈博侃,陈琨.TbFe磁性薄膜的磁力显微镜成像研究[J].功能材料,2007,38(A03):1266-1267. |
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| 作者姓名： | 王志红 周宇 沈博侃 陈琨 |
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| 作者单位： | 电子科技大学 电子薄膜与集成器件国家重点实验室,四川成都610054 |
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| 基金项目： | 国家重点基础研究发展计划（973计划）资助项目（51310Z）. |
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| 摘 要： | 利用磁力显微镜（MFM）对TbFe磁性薄膜进行了不同抬举距离（分别为60～780nm）的磁力成像研究．在实验中，比较了低抬举距离（100nm以下）磁力像中样品-针尖的互相干扰；同时发现在高抬举距离磁力像中，随着抬举距离的增大，出现了与高凸起形貌对应的图像衬度特征，并随抬举距离的变化也改变着位置与强度，一直到抬举距离为仪器的极限值780nm时，形貌干扰仍未消失，对其形成机制进行了分析．
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| 关 键 词： | TbFe薄膜 磁力显微镜 抬举距离 |
| 文章编号： | 1001-9731（2007）增刊-1266-02 |
| 修稿时间： | 2007-04-28 |
Study on magnetic imaging of TbFe thin film by MFM |
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| WANG Zhi-hong, ZHU Yu, SHEN Bo-kan, CHEN Kun.Study on magnetic imaging of TbFe thin film by MFM[J].Journal of Functional Materials,2007,38(A03):1266-1267. |
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| Authors: | WANG Zhi-hong ZHU Yu SHEN Bo-kan CHEN Kun |
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| Affiliation: | State Key Laboratory of Electronic Thin Films and Integrated Devices, University of Electronic Science and Technology, Chengdu 610054, China |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | TbFe thin film magnetic force microscopy lift distance |
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