| 低温热处理条件对TFA-MOD方法制备的YBCO薄膜的影响研究 |
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| 引用本文： | 崔旭梅 王军 刘国钦 陶伯万 李言荣. 低温热处理条件对TFA-MOD方法制备的YBCO薄膜的影响研究[J]. 功能材料, 2007, 38(A02): 477-479 |
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| 作者姓名： | 崔旭梅 王军 刘国钦 陶伯万 李言荣 |
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| 作者单位： | [1]攀枝花学院材料工程系,四川攀枝花617000 [2]电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室,四川成都610054 |
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| 摘 要： | 目前，三氟乙酸．金属有机沉积（简称TFA-MOD）方法是制备YBaECU307-6（简称YBCO）涂层导体最有应用前景的方法之一。系统地研究了TFA-MOD过程中低温热处理条件（升温速率和气氛）对在LaAlO3单晶基片上生长的YBCO薄膜的影响。研究结果表明，低温热处理的气氛为纯02时，200～250℃区间的分解速度不能太快，否则YBCO薄膜就不均匀和致密，薄膜中会出现较多的孔洞，薄膜的面外取向性也较差，从而影响薄膜的超导性能，然而过慢的分解速度也会使薄膜表面有较大的CuO析出物。分解速度为0．08℃／min时才可以得到结构和超导性能良好的YBCO薄膜。同时研究也发现在低温热处理过程中如果采用Ar和2．5％O2混合气氛则可以减弱三氟乙酸盐分解的剧烈程度，从而使低温热处理的分解速度提高到0．8℃／min，得到的YBCO薄膜同样具有较好的面外取向性和超导性能。
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| 关 键 词： | YBCO薄膜 TFA-MOD 升温速度 |
| 文章编号： | 1001-9731（2007）增刊-0477-03 |
| 修稿时间： | 2007-06-07 |
The influence of the calcining conditions on YBCO films prepared by the trifluoroacetate metal-organic deposition process |
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| CUI Xu-mei, WANG Jun, LIU Guo-qing, TAO Bo-wan, LI Yan-rong, Chengdu , China). The influence of the calcining conditions on YBCO films prepared by the trifluoroacetate metal-organic deposition process[J]. Journal of Functional Materials, 2007, 38(A02): 477-479 |
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| Authors: | CUI Xu-mei WANG Jun LIU Guo-qing TAO Bo-wan LI Yan-rong Chengdu China) |
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| Affiliation: | I .Department of Material Science and Engineering, Panzhihua University, Panzhihua 617000, China; 2. State Key Laboratory of Electronic Thin Films and Integrated Devices, University of Electronic Science and Technology of China (UESTC |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | YBCO superconducting film TFA-MOD heating rate |
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