| 锡基氧化物薄膜的制备及结构表征 |
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| 引用本文： | 张宏斌 祝要民 裴世轻 李董轩 赵胜利. 锡基氧化物薄膜的制备及结构表征[J]. 功能材料, 2007, 38(A04): 1439-1441 |
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| 作者姓名： | 张宏斌 祝要民 裴世轻 李董轩 赵胜利 |
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| 作者单位： | 河南科技大学材料科学与工程学院,河南洛阳471003 |
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| 基金项目： | 基金项目：国家自然科学基金资助项目（20203006）;国家重大基础研究计划（973计划）资助项目（ZM200103801）;河南科技大学科研基金资助项目（2003ZY42）;河南省教育厅自然科学计划资助项目（2006430005） |
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| 摘 要： | 采用直流反应溅射并结合热处理工艺制备锡基氧化物薄膜（SnOx，1≤x≤2），利用扫描电镜（SEM）、能谱仪（EDX）、x射线衍射仪（XRD）考察退火温度对薄膜表面形貌、组成和结构的影响，并通过恒流充放电初步考察薄膜的电化学性能。研究结果表明，在400-600℃退火温度下制备的SnOx薄膜表面光滑、结构致密；随着退火温度的升高，薄膜中SnO的含量逐渐减少，SnO2的含量逐渐增加，薄膜的晶粒尺寸增大，大小为30-50nm；600℃退火2h获得的SnOx薄膜具有良好的电化学循环稳定性，有望成为高性能的全固态薄膜锂电池阳极材料。
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| 关 键 词： | 锡基氧化物 薄膜 结构 直流溅射 |
| 文章编号： | 1001-9731（2007）增刊-1439-03 |
| 修稿时间： | 2007-07-25 |
Preparation and structure of tin-based oxide thin film |
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| ZHANG Hong-bin, ZHU Yao-min, PEI Shi-qing, LI Dong-xuan, ZHAO Sheng-li. Preparation and structure of tin-based oxide thin film[J]. Journal of Functional Materials, 2007, 38(A04): 1439-1441 |
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| Authors: | ZHANG Hong-bin ZHU Yao-min PEI Shi-qing LI Dong-xuan ZHAO Sheng-li |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | tin-based oxide thin film structure direct-current sputtering |
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