| HfO2薄膜的制备与光学性能 |
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| 引用本文： | 刘文婷 刘正堂 许宁 鹿芹芹 闫锋. HfO2薄膜的制备与光学性能[J]. 功能材料, 2007, 38(A01): 309-311 |
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| 作者姓名： | 刘文婷 刘正堂 许宁 鹿芹芹 闫锋 |
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| 作者单位： | 西北工业大学材料学院,陕西西安710072 |
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| 基金项目： | 基金项目：航空科学基金资助项目（04G53043） |
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| 摘 要： | 采用射频磁控反应溅射法，以高纯热压HfO2陶瓷为靶材，在Si衬底上成功制备出HfO2薄膜。系统研究了工艺参数对薄膜沉积速率的影响规律，并对薄膜的光学性能进行了研究。结果表明，射频功率对薄膜沉积速率的影响最为明显，O2／Ar流量比和衬底温度对沉积速率的作用不明显，所制备薄膜的折射率较高在近红外波段趋于1．95，在500-1650nm波段范围内薄膜几乎无吸收，透过率较高。
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| 关 键 词： | 磁控反应溅射 HfO2薄膜 沉积速率 光学性能 |
| 文章编号： | 1001-9731（2007）增刊-0309-03 |
| 修稿时间： | 2007-04-29 |
Preparation and optical properties of HfO2 thin films |
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| LIU Wen-ting, LIU Zheng-tang, XU Ning, LU Qin-qin, YAN Feng. Preparation and optical properties of HfO2 thin films[J]. Journal of Functional Materials, 2007, 38(A01): 309-311 |
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| Authors: | LIU Wen-ting LIU Zheng-tang XU Ning LU Qin-qin YAN Feng |
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| Keywords: | reactive magnetron sputtering HfO2 thin films deposition rate optical properties |
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