涂层成份及结构的X射线光电子谱分析

以硬质合金作为衬底，分别采用了化学涂层（ＣＶＤ）和物理化学涂层（ＰＣＶＤ）的技术涂复Ｔｉ（Ｃ，Ｎ）－ＴｉＮ硬质膜，应用Ｘ射线光电子谱分析（ＸＰＳ）技术，研究涂层表面化学成分，元素化学状态，物相组成及基随深度的变化，涂层表面由Ｔｉ，Ｎ，Ｃ，Ｏ和 Ｃｏ组成；表面物相包括ＴｉＮ，ＴｉＯｘ及ＣｏＣ。随着深度的增加，Ｔｉ：Ｎ迅速变为１，而ＴｉＯｘ和ＣｏＯ含量急剧减少。