直流电弧等离子体喷射(DCPJ)法在沉积金刚石膜上的应用 |
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作者姓名: | 翟华嶂 曹传宝 |
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作者单位: | 北京理工大学材料研究中心等离子体实验室,北京理工大学材料研究中心等离子体实验室,北京理工大学材料研究中心等离子体实验室 北京 100081,北京 100081,北京 100081 |
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摘 要: | 直流是弧等离子体喷射法是制备金刚石膜的一项很有前任的技术。综述了直流电弧等离子体喷射法的原理,进展状况、工艺上的改进和建立机理模型上的努力。
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关 键 词: | 等离子体喷射 化学气相沉积 金刚石 薄膜 DCPJ |
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