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分类号
杂志ISSN号
基于最速下降法的可制造性模型
作者姓名:
胡志卷
杨巍
史峥
作者单位:
浙江大学超大规模集成电路设计研究所,杭州,310027
摘 要:
可制造性设计技术使设计者尽早得到设计版图能否被制造的信息,以减少交流等待的时间。为此,提出一种可制造性模型,用一个或者多个卷积核描述设计版图和轮廓之间的关系,用最速下降法求得,求解过程仅需要输入版图和轮廓对。实验结果表明,该模型能够对设计版图的结果进行较好的预测,与通过光刻模型仿真结果之间的误差在1.8%以内。
关 键 词:
可制造性设计
可制造性模型
仿光刻模型
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