| PMMA表面高功率脉冲磁控溅射制备ITO涂层的研究 |
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| 引用本文： | 冯军. PMMA表面高功率脉冲磁控溅射制备ITO涂层的研究[J]. 稀有金属材料与工程, 2020, 49(7): 2229-2233 |
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| 作者姓名： | 冯军 |
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| 基金项目： | 国家磁约束核聚变能发展研究专项（2018YFE0313100）；南华大学博士启动基金(2016XQD29) |
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| 摘 要： | 采用高功率脉冲磁控溅射技术在PMMA基体上制备了ITO涂层。利用XRD、SEM对涂层进行了相结构的分析，并进行了划痕实验、光电性能测试，结果表明：偏压、氢氩流量比等工艺参数对涂层的相结构、膜基结合力、光电性能均有影响。增大偏压，膜基结合力将增强，偏压达到240 V时，膜基结合力最好（56.5N）。偏压由0 V增加到160 V的过程中，涂层晶粒增大，透射率变高（ 由82.24% 增至 89.82%），电阻率变低（由0.006571 减至 0.000543 Ω.cm）。氢氩流量比由0增至0.05，透射率变低（由89.82%减至56.12% )。氢氩流量比由0增至0.03，电阻率变低(由0.000543减至0.000212 Ω.cm ) ；氢氩流量比由0.03增至0.05，电阻率变高由0.000212 增至0.000373 Ω.cm)。
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| 关 键 词： | ITO涂层；高功率脉冲磁控溅射；PMMA；脉冲偏压；氢氩流量比 |
| 收稿时间： | 2019-03-26 |
| 修稿时间： | 2020-05-29 |
Preparation of ITO coating on the PMMA by high-power pulse magnetron sputtering |
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| fengjun. Preparation of ITO coating on the PMMA by high-power pulse magnetron sputtering[J]. Rare Metal Materials and Engineering, 2020, 49(7): 2229-2233 |
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| Authors: | fengjun |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | ITO coatings high-power pulse magnetron sputtering PMMA pulsed bias flowrate?ratio?of hydrogen?and?argon |
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