| 脉冲辉光PECVD制备DLC薄膜的结构和性能研究 |
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| 引用本文： | 苟伟,李剑锋,楚信谱,张礼平,李国卿. 脉冲辉光PECVD制备DLC薄膜的结构和性能研究[J]. 真空科学与技术学报, 2008, 28(Z1): 33-37 |
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| 作者姓名： | 苟伟 李剑锋 楚信谱 张礼平 李国卿 |
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| 作者单位： | 1. 大连理工大学三束材料改性国家重点实验室,大连,116024
2. 大连交通大学,大连,116028 |
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| 摘 要： | 类金刚石碳膜以其优异的性能,诸如高电阻率、高硬度、低摩擦系数、良好的光学特性等显示出良好的应用前景,越来越受到人们的关注.本文利用脉冲辉光PECVD在不同的脉冲电压下成功地制备了DIE薄膜.采用拉曼光谱仪、原子力显微镜、纳米压痕仪等设备对薄膜的相结构、表面形貌和力学性能进行了综合分析.
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| 关 键 词： | 脉冲放电 等离子体辅助化学气相沉积法 类金刚石碳膜 Raman光谱 表面形貌 脉冲电压 PECVD 薄膜 结构 力学性能 研究 Chemical Vapor Deposition Plasma Carbon Films Properties 综合分析 表面形貌 设备 纳米压痕仪 显微镜 原子力 拉曼光谱仪 利用 前景 应用 |
| 文章编号： | 1672-7126(2008)增刊-033-05 |
| 修稿时间： | 2007-08-25 |
Microstructures and Properties of Diamond-Like Carbon Films Grown by Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition |
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| Gou Wei,Li Jianfeng,Chu Xinpu,Zhang Liping,Li Guoqing. Microstructures and Properties of Diamond-Like Carbon Films Grown by Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition[J]. JOurnal of Vacuum Science and Technology, 2008, 28(Z1): 33-37 |
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| Authors: | Gou Wei Li Jianfeng Chu Xinpu Zhang Liping Li Guoqing |
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