| 强磁场下真空蒸发Zn薄膜晶粒细化研究 |
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| 引用本文： | 任树洋,任忠鸣,任维丽,操光辉. 强磁场下真空蒸发Zn薄膜晶粒细化研究[J]. 真空科学与技术学报, 2009, 29(5). DOI: 10.3969/j.issn.1672-7126.2009.05.03 |
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| 作者姓名： | 任树洋 任忠鸣 任维丽 操光辉 |
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| 作者单位： | 上海大学材料科学与工程学院,上海,200072 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金(No.50671060)资助 |
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| 摘 要： | 分别在1T,2T和3T强磁场下采用真空蒸发沉积制备了三种相同厚度的Zn薄膜,并和无磁场下制备的薄膜进行了对比研究.SEM对薄膜表面形貌研究发现,施加磁场制备的Zn薄膜表面晶粒要比无磁场条件下制备的薄膜有明显的细化作用.对磁场下Zn原子团形成进行了热力学分析,推导了磁场作用下的临界形核半径r*M和临界形核自由能ΔG*M,引入了磁场对临界形核自由能作用因子fM.对磁场导致晶粒形核能的变化以及形核浓度的影响作了深入分析,r*M和ΔG*M减小从而增加临界形核浓度和形核速率是Zn晶粒细化的原因.另外,磁场对扩散的抑制作用也对晶粒细化起到了作用.
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| 关 键 词： | 强磁场 晶粒细化 真空蒸发沉积 薄膜 |
Grain Size Distribution and High Magnetic Filed in Zn film Growth by Vacuum Deposition |
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| Ren Shuyang,Ren Zhongming,Ren Weili,Cao Guanghui. Grain Size Distribution and High Magnetic Filed in Zn film Growth by Vacuum Deposition[J]. JOurnal of Vacuum Science and Technology, 2009, 29(5). DOI: 10.3969/j.issn.1672-7126.2009.05.03 |
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| Authors: | Ren Shuyang Ren Zhongming Ren Weili Cao Guanghui |
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