PACVD的金属陶瓷的制备,特征和磨损性能 |
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引用本文: | Endle.,I 肖旭萍.PACVD的金属陶瓷的制备,特征和磨损性能[J].国外核聚变与等离子体应用,1996(1):69-74. |
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作者姓名: | Endle. I 肖旭萍 |
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摘 要: | 用脉冲dc辉光放电通过等离子辅助化学气相沉积工业用金属陶瓷刀片镀上TiNx,TiCxNy和Nx。在773-973K的沉积温度范围内,研究了涂层参数对沉积率,涂层成分,涂层-基底分界面,涂层结构及微硬度的影响。采用最佳过程参数,获得了具有低氧和氯杂质,高微硬度和良好粘附强度的涂层。
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关 键 词: | 等离子体沉积 硬涂层 磨损 金属陶瓷 |
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