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工艺条件对化学镀Ni-Co-P合金的影响
引用本文:王森林,孙永国,郑一雄,吴辉煌. 工艺条件对化学镀Ni-Co-P合金的影响[J]. 材料保护, 2002, 35(10): 18-19
作者姓名:王森林  孙永国  郑一雄  吴辉煌
作者单位:1. 国立华侨大学材料科学与工程学院,福建,泉州,362011;厦门大学化学系,福建,厦门,361005
2. 国立华侨大学材料科学与工程学院,福建,泉州,362011
3. 厦门大学化学系,福建,厦门,361005
基金项目:国家自然科学基金资助课题 (批准号 :2 0 0 730 35 )
摘    要:采用硼酸为缓冲剂 ,柠檬酸钠为络合剂化学镀Ni Co P合金。考察了镀液pH值、钴离子浓度和温度对化学镀Ni Co P沉积速度的影响 ;研究了钴离子浓度对镀层组成的影响 ,获得了化学镀Ni Co P合金的最佳工艺条件为 :镀液pH值为 7.0 ,操作温度 90℃ ,CoSO4 ·7H2 O浓度为 11g/L。此工艺下镀液稳定性好 ,镀层沉积速度快 ;所得镀层为非晶结构。

关 键 词:工艺条件 化学镀 Ni-Co-P合金 影响 镍钴磷合金
文章编号:1001-1560(2002)10-0018-02

Effect of Process Conditions on Electroless Ni-Co-P alloy
WANG Sen|lin+,,SUN Yong|guo+,ZHENG Yi|xiong+,WU Hui|huang+. Effect of Process Conditions on Electroless Ni-Co-P alloy[J]. Journal of Materials Protection, 2002, 35(10): 18-19
Authors:WANG Sen|lin+    SUN Yong|guo+  ZHENG Yi|xiong+  WU Hui|huang+
Affiliation:WANG Sen|lin+1,2,SUN Yong|guo+1,ZHENG Yi|xiong+1,WU Hui|huang+2
Abstract:
Keywords:electroless plating  Ni|Co|P alloy  process conditions
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