硅片中微缺陷的CO_2激光自动选择退火 |
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作者姓名: | 丁乐礼 傅汝廉 开桂云 |
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作者单位: | 南开大学电子科学系(丁乐礼),南开大学现代光学研究所(傅汝廉),南开大学现代光学研究所(开桂云) |
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摘 要: | 利用硅对CO_2激光吸收是自由载流子吸收的特点,将有微缺陷的硅片按器件图形扩硼以后,再用CO_2激光进行短时间退火,能够只把器件有源区里面的微缺陷消除掉。 实验结果表明,经CO_2激光退火以后,报废器件的性能可以修复,有微缺陷的硅片可以用来做器件,而且效果更好。CO_2激光退火的选择是在退火过程中自动完成的,不需要借助于任
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