| 低辐射膜系中(Al,Ti)N薄膜的研究 |
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| 引用本文： | 仝玉莲,时方晓.低辐射膜系中(Al,Ti)N薄膜的研究[J].材料与冶金学报,2016(4):298-303. |
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| 作者姓名： | 仝玉莲 时方晓 |
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| 作者单位： | 沈阳建筑大学材料科学与工程学院,沈阳,110168 |
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| 基金项目： | 辽宁省科技计划项目(2011222005) |
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| 摘 要： | 以制备出性能优异成本低廉的低辐射镀膜玻璃为目的.通过直流磁控反应溅射技术在玻璃(或单晶硅)表面制备(Al,Ti)N薄膜作为低辐射镀膜玻璃的内层介质层,在此基础上进行单因素变量分析铝靶功率、钛靶功率、氮气流量和溅射时间对薄膜可见光透过率、表面粗糙度的影响以及测定最优条件下薄膜的结晶状态、表面形貌和元素含量.结果表明,当铝靶功率为100 W、钛靶功率为80 W、氮气流量为2.5 ml/min、溅射时间为90 min时可见光范围内透过率均在96%以上,表面粗糙度11.3 nm,膜基结合力强,膜质优异适宜低辐射镀膜玻璃功能膜的附着.
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| 关 键 词： | 建筑 低辐射镀膜玻璃 直流反应溅射 (Al Ti)N薄膜 |
(Al,Ti) N film in low emissivity films |
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| Tong Yulian,Shi Fangxiao.(Al,Ti) N film in low emissivity films[J].Journal of Materials and Metallurgy,2016(4):298-303. |
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| Authors: | Tong Yulian Shi Fangxiao |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | building low-e glass DC reactive sputtering (Al Ti) N thin film |
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