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半导体硅材料厂工艺设计中的污染控制技术
引用本文:
张重敏.半导体硅材料厂工艺设计中的污染控制技术[J].有色冶炼,1996(5):36-41.
作者姓名:
张重敏
摘 要:
文章介绍了洁净技术与洁净室设计的主要内容,论述了洁净工艺设计与集成电路制造工艺微细化尺度趋势间的关系,着重介绍了工艺设计中的污染控制技术及当今世界实践趋势。
关 键 词:
硅
洁净技术
污染控制
半导体材料
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