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多弧离子镀TiAlN薄膜的制备及其抗氧化性能
引用本文:梁启超,王天国. 多弧离子镀TiAlN薄膜的制备及其抗氧化性能[J]. 材料保护, 2017, 50(1)
作者姓名:梁启超  王天国
作者单位:湖北汽车工业学院材料科学与工程学院,湖北十堰,442002
摘    要:目前,关于氮氩比对TiAlN薄膜高温抗氧化性能影响的研究较少。采用多弧离子镀技术在M2高速钢上沉积TiAlN薄膜,利用SEM、XRD等方法研究氮氩流量比对薄膜组织结构、表面形貌和抗氧化性的影响。结果表明:TiAlN薄膜呈δ-TiN面心立方晶体结构;随着氮氩流量比的提高,薄膜表面熔滴数量显著下降,膜层表面更加平整光滑,相结构的择优取向发生改变,硬度先增大后趋于稳定,表面氧化物含量逐渐下降;当氮氩流量比为9∶1时,所得TiAlN薄膜在800℃氧化温度下,其表面会生成一层致密的Al_2O_3保护膜,有效阻止了薄膜被进一步氧化,具有良好的抗氧化性能。

关 键 词:多弧离子镀  TiAlN薄膜  氮氩流量比  M2高速钢  组织结构  抗氧化性能

Preparation of TiAlN Films by Multi-Arc Ion Plating Techniques and Its Oxidation Resistance
LIANG Qi-chao,WANG Tian-guo. Preparation of TiAlN Films by Multi-Arc Ion Plating Techniques and Its Oxidation Resistance[J]. Journal of Materials Protection, 2017, 50(1)
Authors:LIANG Qi-chao  WANG Tian-guo
Abstract:
Keywords:multi-arc ion plating technique  TiAlN coating  flux ratio N2/Ar  M2 high speed steel  microstructure  oxidation resistance
本文献已被 CNKI 万方数据 等数据库收录!
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