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一种高抗辐射的SOI电脉冲时间间隔测定电路
引用本文:安涛,孔荆钟,高勇,张新. 一种高抗辐射的SOI电脉冲时间间隔测定电路[J]. 固体电子学研究与进展, 2003, 23(3): 292-295
作者姓名:安涛  孔荆钟  高勇  张新
作者单位:1. 西安理工大学电子工程系,西安,710048
2. 华东光电集成器件研究所,蚌埠,233042
摘    要:研制出一种高抗辐射的 SOICMOS电脉冲时间间隔测定器集成电路。在阐述其工作原理的基础上 ,进行了抗辐射设计与版图设计。通过实验分析找到了向 SOI材料的 Si O2 埋层注入 F+ 离子的优化注入条件 ,有效地抑制 SOI CMOS器件的阈值电压的漂移 ,提高了电路的抗辐射性能。采用注入 F+离子 SOICMOS工艺投片后测试结果表明 :该电路与同类体硅电路相比 ,具有高速、低功耗、测量精度高以及优良的抗辐射性能

关 键 词:绝缘体上硅技术  抗辐射  版图设计
文章编号:1000-3819(2003)03-292-04
修稿时间:2002-10-21

A SOI Electric Pulse Measure Circuit of Time Interval with Good Anti-radiation
AN Tao KONG Jingzhong GAO Yong ZHANG Xin. A SOI Electric Pulse Measure Circuit of Time Interval with Good Anti-radiation[J]. Research & Progress of Solid State Electronics, 2003, 23(3): 292-295
Authors:AN Tao KONG Jingzhong GAO Yong ZHANG Xin
Affiliation:AN Tao 1 KONG Jingzhong 1 GAO Yong 1 ZHANG Xin 2
Abstract:
Keywords:silicon on insulator technology  anti radiatio n  layout design
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