| CoFe/Cu多层膜巨磁阻效应的研究 |
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| 引用本文： | 郑金平,冯洁. CoFe/Cu多层膜巨磁阻效应的研究[J]. 真空科学与技术学报, 2007, 27(2): 123-126 |
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| 作者姓名： | 郑金平 冯洁 |
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| 作者单位： | 1. 上海交通大学,微纳科学技术研究院,微米/纳米加工技术国家级重点实验室,上海,200030
2. 上海交通大学,微纳科学技术研究院,薄膜与微细技术教育部重点实验室,上海,200030 |
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| 摘 要： | 采用直流磁控溅射制备了多层膜Ta/缓冲层/[Co95Fe5/Cu]×12/Co95Fe5/Ta。实验发现,多层膜的磁阻性能受到缓冲层材料、各子层厚度以及退火处理的影响。采用优化的多层膜结构:Ni65Fe15Co20缓冲层厚8 nm、CoFe层厚1.55 nm、Cu层厚2.4nm,沉积态薄膜GMR值达到7.6%;而在外加磁场79.6×103A/m下,250℃保温2 h退火处理后,多层膜的GMR值进一步提高到11.9%,磁滞从18.7×102A/m降低到796 A/m。
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| 关 键 词： | 多层膜 巨磁阻 缓冲层 退火 |
| 文章编号： | 1672-7126（2007）02-0123-04 |
| 修稿时间： | 2006-06-22 |
Study of Giant Magnetoresistance in CoFe/Cu Multilayer |
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| Zheng Jinping,Feng Jie. Study of Giant Magnetoresistance in CoFe/Cu Multilayer[J]. JOurnal of Vacuum Science and Technology, 2007, 27(2): 123-126 |
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| Authors: | Zheng Jinping Feng Jie |
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| Affiliation: | National Key lnboratory of Nano/ Micro Fabrication Technology, Key laboratory for thin film and microfabrication of Ministry of Education, Institute of Micro and Nano science and technology , Shanghai Jiaotong University, Shanghai 200030 |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | Multilayers GMR Buffer layer Annealing |
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