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| 采用磁控管方式溅射的电子回旋共振等离子体沉积技术的研究 | |
| 引用本文： | 汪建华,袁润章,邬钦崇,任兆杏,喻宪辉. 采用磁控管方式溅射的电子回旋共振等离子体沉积技术的研究[J]. 半导体技术, 1999, 0(2) |
| 作者姓名： | 汪建华 袁润章 邬钦崇 任兆杏 喻宪辉 |
| 作者单位： | 1. 武汉工业大学,武昌,430072 2. 中科院等离子体物理研究所 3. 湖北省交通学院 |
| 摘 要： | 将磁控管方式溅射用于微波ＥＣＲ等离子体沉积技术。在低气压和低温下沉积了高度Ｃ轴取向的ＺｎＯ薄膜，其膜的沉积速率比普通ＥＣＲ溅射中所得到的速率大得多，并且在Φ１２ｃｍ的膜区域内显示出良好的均匀性。 |
| 关 键 词： | 磁控管方式 溅射 ECR等离子体 ZnO薄膜 |
| 修稿时间： | 19971209 |
Study of an Electron Cyclotron Resonance Plasma Deposition Technique by Magnetron Mode Sputtering |
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| Wang Jianhua,Yuan Runzhang,Wu Qinchong,Ren Zhaoxing,Yu Xianhui. Study of an Electron Cyclotron Resonance Plasma Deposition Technique by Magnetron Mode Sputtering[J]. Semiconductor Technology, 1999, 0(2) | |
| Authors: | Wang Jianhua Yuan Runzhang Wu Qinchong Ren Zhaoxing Yu Xianhui |
| Affiliation: | Wang Jianhua,Yuan Runzhang,WuQinchong,Ren Zhaoxing,Yu Xianhui;( |
| Abstract: | |
| Keywords: | Magnetron mode Sputtering ECR plasma ZnO film |
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