| 基于改进分水岭算法的硅片缺陷提取方法 |
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| 引用本文： | 胡雅颖,齐鸿志,张凤全.基于改进分水岭算法的硅片缺陷提取方法[J].微计算机信息,2009,25(9). |
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| 作者姓名： | 胡雅颖 齐鸿志 张凤全 |
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| 作者单位： | 胡雅颖,齐鸿志,HU Ya-ying,QI Hong-zhi(河北大学计算中心,河北,071000);张凤全,ZHANG Feng-quan(河北工业大学,河北,300130)
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| 摘 要： | 为了提取硅片表面的缺陷,对其缺陷的提取技术进行了研究,提出了改进水分岭算法进行缺陷提取.该方法首先利用形态滤波对缺陷图像进行滤波,并对滤波后梯度图像进行平滑,在去除噪声的同时很好的保持物体轮廓和细节;为了克服分水岭算法的过度分割问题,利用区域强度准则和边界强度准则对过分割区域合并,很好的解决了过分割问题.实验表明,该方法可以提取精确且封闭的缺陷边缘轮廓,为进一步的缺陷特征量的提取奠定了基础.
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| 关 键 词： | 图像处理 缺陷检测 形态滤波 分水岭 过分割 |
Silicon Defect Extraction Method Based on Improved Watershed Algorithm |
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| HU Ya-ying,QI Hong-zhi,ZHANG Feng-quan.Silicon Defect Extraction Method Based on Improved Watershed Algorithm[J].Control & Automation,2009,25(9). |
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| Authors: | HU Ya-ying QI Hong-zhi ZHANG Feng-quan |
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