| CVD法和丝印法制作的碳纳米管场致发射冷阴极的研究 |
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| 引用本文： | 穆辉,张晓兵,雷威,娄朝刚,朱春晖. CVD法和丝印法制作的碳纳米管场致发射冷阴极的研究[J]. 真空科学与技术学报, 2005, 25(Z1): 83-85 |
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| 作者姓名： | 穆辉 张晓兵 雷威 娄朝刚 朱春晖 |
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| 作者单位： | 东南大学电子工程系,南京,210096 |
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| 基金项目： | 国家973计划(No.2003CB314706和No.2003CB314702);教育部博士点基金(No.20030286003)和新世纪人才计划(NCET-04-0473) |
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| 摘 要： | 本文研究了丝网印刷法和CVD生长法制备的碳纳米管冷阴极的场致发射性能.结果表明,在没有模板的情况下,通过CVD生长的碳纳米管的直径与催化剂颗粒的直径有关,随催化剂颗粒的直径变化而变化,生长方向是随机的,但大电流发射稳定性较差;用丝网印刷方法制作的碳纳米管致发射冷阴极,场发射电流发射较稳定.
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| 关 键 词： | 碳纳米管 丝网印刷 场发射 CVD |
| 文章编号： | 1672-7126(2005)增-083-03 |
| 修稿时间： | 2004-12-01 |
Field Emission of Carbon Nanotube Arrays Prepared by Chemical Vapor Deposition and Screen Printing |
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| Mu Hui,Zhang Xiaobing,Lei Wei,Lou Chaogang,Zhu Chunhui. Field Emission of Carbon Nanotube Arrays Prepared by Chemical Vapor Deposition and Screen Printing[J]. JOurnal of Vacuum Science and Technology, 2005, 25(Z1): 83-85 |
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| Authors: | Mu Hui Zhang Xiaobing Lei Wei Lou Chaogang Zhu Chunhui |
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| Keywords: | CVD |
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