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| 电气和电子工程用材料科学 | |
| 摘 要： | TB43 00030024高品质立方氮化硼薄膜的制备及应用基础研究/王波,宋雪梅,张兴旺,严辉,陈光华(北京工业大学)11北京工业大学学报.一1999,25(3).一15一18,30采用射频(RF)磁控溅射的方法,成功地在(100)单晶硅片上沉积制备出了高品质的c一BN薄膜,并通过对基片的高能离子束的预处理,有效地改善了c一BN薄膜中因内应力导致的差的附着性能进一步研究了衬底负偏压、温度与薄膜质量的关系,讨论薄膜中内应力的状态,在此基础上,深入开展了硬质合金上沉积c一BN薄膜的工作,为c一BN薄膜的实际应用奠定了基础.图4参《午)的漏电流比溅射TaZOS膜和阳极氧… |
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