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| 8.0nm附近Mo／B4C软X射线多层膜初步研究 | |
| 引用本文： | 吕俊霞,曹健林.8.0nm附近Mo／B4C软X射线多层膜初步研究[J].光学精密工程,1996,4(5):36-40. |
| 作者姓名： | 吕俊霞 曹健林 |
| 作者单位： | 中国科学院长春光学精密机械研究所，应用光学国家重点实验室 |
| 基金项目： | 国家自然科学基金和国家高技术“863－410－3”专题资助项目 |
| 摘 要： | 介绍研制８．０ｎｍ波长附近正入射Ｍｏ／Ｂ４Ｃ软Ｘ射线多层膜的初步研究结果。讨论了包括镀膜材料的选择、多层膜结构设计及多层膜性能模拟计算和用磁控溅射法制备以膜的镀膜工艺等在内的多层膜制备过程，并对制备的软Ｘ射线多层膜进行了结构测试。制备出的Ｍｏ／Ｂ４Ｃ软Ｘ射线多层膜将主要用于Ｘ射线激泖打靶实验中。这是目前国内首次开展的１０．０ｎｍ波长以下实用软Ｘ射线多层膜镜的研究工作。 |
| 关 键 词： | 软X射线 多层膜 磁控溅射 膜 |
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