| 添加SeO2对电沉积纳米晶Cu的影响 |
| |
| 引用本文： | 张含卓,江中浩,连建设.添加SeO2对电沉积纳米晶Cu的影响[J].材料保护,2007,40(8):46-47,70. |
| |
| 作者姓名： | 张含卓 江中浩 连建设 |
| |
| 作者单位： | 吉林大学,汽车材料教育部重点实验室,吉林,长春,130025 |
| |
| 摘 要： | 采用扫描电镜、X射线衍射等方法,研究了SeO2作为添加剂对直流电沉积纳米晶Cu表面形貌、微观结构和硬度的影响.结果表明,加入O.02 g/L SeO2可使沉积层表面平整致密,沉积Cu层的(111)晶面择优取向程度上升,晶粒尺寸减小至27.9 nm左右,显微硬度升至277 HV,约为粗晶铜硬度的6倍.
|
| 关 键 词： | SeO2 电沉积 纳米晶 铜 形貌 微观结构 显微硬度 |
| 文章编号： | 1001-1560（2007）08-0046-02 |
| 修稿时间： | 2007-01-30 |
Effects of SeO2 as an Additive on the Microstructure and Hardness of Electrodeposited Nanocrystalline Copper |
| |
| ZHANG Han-zhuo,JIANG Zhong-hao,LIAN Jian-she.Effects of SeO2 as an Additive on the Microstructure and Hardness of Electrodeposited Nanocrystalline Copper[J].Journal of Materials Protection,2007,40(8):46-47,70. |
| |
| Authors: | ZHANG Han-zhuo JIANG Zhong-hao LIAN Jian-she |
| |
| Abstract: | |
| |
| Keywords: | |
| 本文献已被 维普 万方数据 等数据库收录！ |
|
